亚10nm图形加工及其应用

报告题目：亚10nm图形加工及其应用
报告人：  段辉高 教授
          湖南大学
时间：    12月6日（周日) 下午3:00
地点：    卢嘉锡楼报告厅（202）

以下是报告的摘要部分和报告人的个人简介部分：

报告摘要：
    高分辨图形加工是集成电路的核心技术，也在纳米光学以及纳米电子学等基础研究领域起着关键的作用。报告第一部分将介绍我们近些年在电子束曝光分辨率极限方面的工作。通过研究这些曝光方法的分辨率限制因素以及优化它们的工艺参数，可实现10nm以下周期（5nm半周期）的分辨率。报告的第二部分将着重介绍这些纳米加工方式在表面等离激元光子学器件和纳米间隙电极对制作、纳米光学防伪以及可控自组装研究中的应用。

个人简介：
    段辉高，1982年生，湖南大学教授，博士生导师。分别于2004年和2010年获兰州大学学士和博士学位。2012年获“全国百篇优秀博士学位论文奖”。2006年至2012年间，先后在中国科学院电工研究所、美国麻省理工学院、新加坡科技研究局、德国斯图加特大学从事研究工作，2012年9月加入湖南大学开展独立科研工作。在Nature Nanotechnology、Advanced Materials、Nano Letters等期刊发表SCI论文70余篇，目前主持国家自然基金面上项目2项、青年基金1项。申请新加坡专利3项，PCT国际专利1项，获授权澳大利亚专利1项。目前重点从事的研究方向包括亚10nm尺度图形加工、纳米彩色介质应用于显示/传感/光学防伪、高性能光电器件开发及其应用。

欢迎有兴趣的老师同学参加！

固体表面物理化学国家重点实验室
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2015年12月1日