卢嘉锡讲座
报告题目：Semiconductor Lithography and Imaging Materials
报告时间：2020-12-23 10:00
报 告 人：Mark Neisser博士
嘉庚创新实验室产业运营平台技术总监
ITRS/IRDS(国际半导体技术蓝图)光刻技术工作组主席
报告地点：化学报告厅
摘要：
The talk will review the progress of semiconductor lithography until now, along with the historic changes in imaging wavelength. It will talk about the different resist chemistries needed to support the historical progress of lithography resolution. It will describe some other materials also used to improve imaging. Finally, it will discuss what improvements might be needed in the future.
报告人简介：
Mark Neisser,密歇根大学化学专业博士，现任嘉庚创新实验室产业运营平台技术总监、ITRS/IRDS(国际半导体技术蓝图)光刻技术工作组主席、《微电子制造学报》编委。 获得专利30余项，发表专业论文100余篇，著作有《EUV光刻》及《显微光刻：科学与技术》。在IBM、AZ等知名企业从事研发工作多年，熟知半导体行业的技术现状及发展趋势。在先进光刻胶领域的研发经验尤其丰富，了解多种光刻材料的性能、工艺及应用情况。曾主持改良EUV抗蚀剂的研究、成功开发了基于金属的新型EUV抗蚀剂；曾主持开发包括抗反射涂层、旋涂蚀刻掩膜在内的多种产品并实现产品化。思维敏捷、逻辑性强、管理经验丰富，是光刻技术领域杰出的科学家。2015年度入选国家海外高层次人才引进计划。
欢迎老师同学们积极参加！
